单晶氧化镁晶片在光电领域的核心应用集中于光学窗口、激光器件、光子器件及红外探测相关部件，依托其高透光性、高温稳定性和晶体规整性，具体场景如下：

一、光学窗口与红外探测部件

①作为红外光学窗口，可覆盖中红外至远红外波段，适配红外探测器、红外热像仪等设备，能在高温环境下保持透光性稳定，常用于航空航天红外探测、工业高温场景红外监测等。

②用于制作红外传感器的透光基底，其低光学损耗特性可减少红外信号衰减，提升传感器的探测灵敏度和测温精准度，适配医疗红外测温、安防红外监控等场景。

二、激光器件核心衬底

①作为激光器衬底部件，适配固体激光器、半导体激光器的结构制备，尤其适合中高温工作的激光器。其高温稳定性可避免激光工作时因发热导致的衬底变形，保障激光输出的稳定性和波长精度。

②用于激光倍频晶体的支撑基底，凭借晶体结构规整性，减少倍频过程中的光散射，提升激光倍频效率，适配激光加工、激光通信等领域的高功率激光器。

三、光子器件与光波导制备

①制作光波导器件，其表面平整度高且光学均匀性好，可通过湿法刻蚀实现精准图案化，适配微纳尺度的光波导、谐振器等光子元件，用于光通信、光计算等系统中提升信号传输效率。

②作为光子集成芯片的基底材料，兼容多种光电薄膜的外延生长，助力构建集成化的光子器件阵列，推动光电子设备的微型化和高性能化。

四、特种光电薄膜生长基底

①用于外延生长高质量的光电功能薄膜，如氧化物光电薄膜、氮化物发光薄膜等。其晶体结构与多种光电材料兼容性强，能保障薄膜的结晶质量，为新型LED、光电探测器等器件的研发提供支撑。

②适配脉冲激光沉积、分子束外延等精密薄膜制备工艺，作为实验用基底探究光电薄膜的生长规律，助力光电材料领域的基础研究和技术突破。