ITO溅射靶材的制作方法以及他们的优缺点

新型功能陶瓷材料是以电、磁、光、声、热、力学、化学或生物功能等的介质材料.

溅射镀膜对靶材质量的要求高于传统材料行业

靶材的清洁度对于溅射镀膜过程中形成的镀膜质量,以及产品质量合格与否有着至关重要的作用,清除那些在靶材上的残留物,可减少靶材表面结瘤,也能提高靶材利用率和生产效率,而且靶材清洁也与后期的养护密不可分.

物理气相沉积的主要方法包括真空蒸发,溅射沉积,电弧等离子镀,离子镀等.PVD膜沉积速度快,附着力强,衍射性好,应用范围广.

聚焦离子束( FIB) 技术的快速发展和实用化要归功于液态金属离子源的开发.

N型半导体也被称为电子型半导体,它(们)是自由电子浓度远大于空穴浓度的杂质半导体.P型半导体也叫空穴型半导体,是以带正电的空穴导电为主的半导体,或者说是空穴浓度远大于自由电子浓度的杂质半导体.

溅射靶材向大尺寸、高纯度化发展

溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布.产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节.

靶材分类溅射靶材种类繁多,依据不同的分类标准,可以有不同的类别.溅射靶材可按形状分类、按化学成份分类以及按应用领域分类.