真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。 并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

磁控溅射方法可用于制备多种材料，如金属、半导体、绝缘子等。它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点。磁控溅射发展至今，除了上述一般溅射方法的优点外，还实现了高速、低温、低损伤。

一文了解金属粉末

金属粉末是指尺寸小于1mm得金属颗粒群。包括单一金属粉末、合金粉末以及具有金属性质的某些难熔化合物粉末，是粉末冶金的主要原材料。

详细的真空镀膜机设计流程

详细的真空镀膜机设计流程，请收藏！（一）

薄膜铂热电阻由一种新的铂热电阻生产技术生产，即用膜工艺改变原有的线绕工艺，制备薄膜铂热电阻。它是由亚微米或微米厚的铂膜及其依附的基板组成。它的测温范围是-50-600℃。目前国产薄膜铂热电阻精度可达到德国标准(DIN)中的B级，技术上与国际先进水平尚有差距。

氮化硼陶瓷坩埚真空下使用温度1800度，气氛保护下使用温度2100度。氮气或者氩气气氛使用最佳，寿命最长。 氮化硼坩埚抗热震强，1500度急冷不开裂，1000度炉内保温20分钟取出来吹风急冷连续反复上百次不会开裂。

在真空中，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，到达衬底凝结成膜的技术。 与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。

PVD（Physical Vapor Deposition），在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。